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        等離子預(yù)處理結(jié)合在線去氧化技術(shù),助力功率模塊制造實現(xiàn)卓越可靠性與優(yōu)異成品率

        2025-11-12 22:34

        德國施泰因哈根2025年11月12日 /美通社/ -- 隨著汽車、工業(yè)及數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域?qū)Ω咝阅芄β孰娮悠骷男枨蟪掷m(xù)增長,制造商正面臨日益嚴峻的工藝挑戰(zhàn):需要提供體積更小、功率更高且具備卓越可靠性的模塊。等離子預(yù)處理與REDOX®-Tool去氧化技術(shù)的協(xié)同應(yīng)用,正成為解決功率模塊生產(chǎn)中長期存在難題的革新性方案。

        功率模塊是現(xiàn)代電氣化進程的核心組件,但其制造過程長期面臨附著力不足、焊點空洞、層間分層及熱管理效率低下等工藝難題。 Plasmatreat的Openair-Plasma®預(yù)處理技術(shù)提供潔凈、干燥且可控的表面活化方案,結(jié)合REDOX®-Tool在連續(xù)生產(chǎn)流程中有效去除表面氧化物,形成完整工藝閉環(huán)。這套解決方案使鍵合質(zhì)量獲得突破性提升,缺陷率顯著下降,最終構(gòu)建起更高階的模塊可靠性體系。

        等離子處理工藝已成為新一代功率模塊制造的關(guān)鍵推動技術(shù)。結(jié)合REDOX®-Tool的在線去氧化處理能力,制造商們能獲得無污染、高活性的理想表面——從而實現(xiàn)更牢固的界面結(jié)合、更優(yōu)異的熱管理性能,以及大幅降低的現(xiàn)場故障率。

        等離子預(yù)處理結(jié)合REDOX®-Tool的技術(shù)優(yōu)勢

        微米級清潔與氧化物還原有效去除有機殘留物與金屬氧化物,顯著改善焊料潤濕性,提升界面結(jié)合完整性。

        表面活化提升表面能,強化引線鍵合、芯片貼裝材料與密封劑的附著力。

        免助焊處理減少對化學底涂劑與助焊劑的依賴,降低污染風險并簡化生產(chǎn)流程

        在線集成:兼容自動化產(chǎn)線,實時工藝控制確保處理效果一致可重復(fù)

        熱界面優(yōu)化:實現(xiàn)無空隙界面結(jié)構(gòu),提升導熱性能,有效降低模塊熱點溫度并增強電流承載能力

        效益提升成果采用該組合技術(shù)的制造商反饋,生產(chǎn)效率提升達40%,并切實降低了因焊點老化或涂層分層導致的現(xiàn)場故障率

        工藝應(yīng)用

        等離子處理方案在以下領(lǐng)域成效顯著:

        • 模塊組裝關(guān)鍵工序:引線框架清潔、引線鍵合、芯片封裝及表面涂覆
        • 高電流應(yīng)用場景:大功率車載逆變器、車載充電設(shè)備及工業(yè)電源模塊,這些應(yīng)用通常面臨嚴苛的熱循環(huán)與振動應(yīng)力挑戰(zhàn)
        • 半導體制造與核心供應(yīng)商需求:適用于追求更高產(chǎn)能、更低報廢率及更強器件可靠性的晶圓廠與一線供應(yīng)商

        Plasmatreat作為常壓等離子表面處理技術(shù)的全球領(lǐng)導者,技術(shù)方案已覆蓋汽車制造至電子工業(yè)等多元領(lǐng)域。在半導體與功率電子制造行業(yè),全球頂尖企業(yè)均信賴這項等離子創(chuàng)新技術(shù),借以提升界面結(jié)合可靠性、控制污染風險并優(yōu)化工藝效率。

        了解等離子技術(shù)應(yīng)用的更多詳情,歡迎蒞臨:

        • 慕尼黑電子生產(chǎn)設(shè)備博覽會(productronica)A2館445展位
        • 歐洲半導體展(SEMICON Europa)B1館136展位

        www.plasmatreat.com

        消息來源:Plasmatreat
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