上海2014年11月28日電 /美通社/ -- 中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司（簡稱“中微”）今日宣布在本月初舉辦的第十六屆中國國際工業(yè)博覽會上榮獲金獎。這一獎項彰顯了中微十年來在先進(jìn)技術(shù)自主創(chuàng)新方面取得的可喜成績。中微此次獲獎產(chǎn)品是其處于行業(yè)領(lǐng)先地位的去耦合等離子體介質(zhì)刻蝕機Primo AD-RIE®，該設(shè)備能夠滿足28到15納米及更先進(jìn)工藝芯片制造的嚴(yán)苛要求。此次工博會有四家單位獲頒金獎，中微是其中之一。
這是中微連續(xù)第二年蟬聯(lián)工博會獎項。去年中微公司的MOCVD設(shè)備Prismo D-BLUE®榮獲工博會銀獎第一名，該設(shè)備已被主流LED生產(chǎn)線采用并進(jìn)行大批量LED外延生產(chǎn)。工博會獎項評審極其嚴(yán)格，同一家公司連續(xù)兩年獲獎實屬少數(shù)。
“中微的兩種不同產(chǎn)品分別于去年獲銀獎、今年獲金獎，確實顯示了中微從2004年成立以來取得的強勁的技術(shù)和業(yè)務(wù)發(fā)展勢頭。”中微公司董事長兼首席執(zhí)行官尹志堯博士說道，“這項榮譽歸功于我們的技術(shù)團隊，他們每天都在為推動技術(shù)的進(jìn)步，為給客戶提供較好的技術(shù)和設(shè)備，并為節(jié)省生產(chǎn)成本而努力奮斗。”
2014年對中微來說是標(biāo)志性的一年。今年7月，中微正式發(fā)布了雙反應(yīng)臺介質(zhì)刻蝕除膠一體機Primo iDEA?-- 這是業(yè)界首次將介質(zhì)等離子體刻蝕的雙臺反應(yīng)器和等離子除膠的雙臺反應(yīng)器集成在同一個系統(tǒng)上，它大大提高了生產(chǎn)效率，同時降低了這兩項工藝過程20%的生產(chǎn)成本。
此外，中微單臺反應(yīng)器等離子體刻蝕設(shè)備Primo SSC AD-RIE?已被客戶驗證用于16納米閃存芯片加工中最關(guān)鍵的步驟。該設(shè)備已用于芯片批量生產(chǎn)，表現(xiàn)卓越，具備極長的持續(xù)正常運行時間和穩(wěn)定的良率，目前每月可加工14多萬片晶圓片。
中微先進(jìn)的技術(shù)能力還吸引了許多新的海外客戶。一些業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的企業(yè)已將中微的刻蝕設(shè)備選為其先進(jìn)芯片加工的定型設(shè)備（PTOR）。
除了在等離子體介質(zhì)刻蝕領(lǐng)域的強勁勢頭，中微在硅通孔刻蝕和MEMS刻蝕領(lǐng)域也取得了較大的發(fā)展。中微12英寸硅通孔刻蝕設(shè)備取得了大陸和臺灣地區(qū)領(lǐng)先客戶的重復(fù)訂單。中微的硅通孔刻蝕設(shè)備為諸如CMOS圖像傳感器（CIS）和其他傳感器等復(fù)雜的封裝提供先進(jìn)的技術(shù)，幫助客戶提高產(chǎn)能并節(jié)省生產(chǎn)成本。
MOCVD市場受本土LED芯片制造商的驅(qū)動逐漸回暖，國內(nèi)越來越多的LED芯片制造商開始接受中微的MOCVD設(shè)備。中微欲借力于這股增長的趨勢，加速MOCVD設(shè)備進(jìn)入客戶生產(chǎn)線的步伐。MOCVD設(shè)備在以較節(jié)省成本的方式生產(chǎn)高亮度LED方面起著關(guān)鍵作用。LED照明預(yù)計終將取代低能效的白熾燈。
尹志堯博士說道：“我們相信，中微先進(jìn)的技術(shù)是公司過去十年取得成功的核心因素，我們也認(rèn)為，中微的經(jīng)營方式發(fā)揮了同樣重要的作用。中微從一開始就很注重把較好的商業(yè)模式和技術(shù)專長同高質(zhì)量的產(chǎn)品和客戶服務(wù)結(jié)合起來。如果客戶選擇與中微合作，他們完全可以相信我們是能夠在技術(shù)創(chuàng)新、快速提高產(chǎn)能、專業(yè)知識、質(zhì)量保證、可靠性和服務(wù)這些他們最看重的方面做得較好的合作伙伴。正是這種信譽使我們過去兩年銷售額連續(xù)增長了40%，我們希望保持這種健康的增長速度。”
